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大功率无液滴高光弧PVD真空设备与先进工模具涂层解决方案
1274纳狮Spark高光弧技术,广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多弧离子镀,甚至最新的Hipims高频磁控溅射,液滴明显及膜缺陷显著减少。 纳狮Spark无液滴技术再创新突破: 以TiN 涂层为例,厚度2.5um,沉积速率0.5um/h,Ra<0.05um,硬度34Gpa. 表面粗...
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纳狮Spark高光弧技术,广泛用于3C高光刀涂层应用。相较于传统的过虑弧多弧离子镀,甚至最新的Hipims高频磁控溅射,液滴明显及膜缺陷显著减少。 纳狮Spark无液滴技术再创新突破: 以TiN 涂层为例,厚度2.5um,沉积速率0.5um/h,Ra<0.05um,硬度34Gpa. 表面粗...
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