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PI电容薄膜

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纳狮一步法PI金属化电容薄膜 #

在金属化膜电容器领域,纳狮实现一步法在聚酯薄膜上双面沉积Al/Cu,镀层厚度均匀性好,附着力优异,因此绕组后的体积也比金属箔电容器的体积小得多。
金属化膜电容的优点是“自愈”特性。当薄膜上绝缘弱的地方被施加过高电压导致击穿时,则击穿点的金属镀层可以在电弧的作用下立即熔化和蒸发,形成一个小的无金属区。电容器的两极片彼此重新绝缘并且仍然可以继续工作,从而大大提高了电的可靠性。

总厚度(μm)
C-PET650-C16.5(1μmCu+4.5μmPET+1μmCu)
C-PP650-A18 (1μmAl+6μmPP+1μmAl)
测试标准/仪器Mahr 测厚仪
电容器薄膜产品命名规则